光刻机唯一上市公司相关帖子

① 上海微电子装备有限公司是不是上市公司啊急求~~

截止抄2020年9月上海微电子装备有限公司袭是不是上市公司。上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV／3D、TFT－OLED等制造领域。

(1)光刻机唯一上市公司相关帖子扩展阅读：

公司拥有一支多学科、高科技人才队伍和完善的产品开发方法和设备，并支持微电子设备研发的光学、机械、电气控制、环境测控技术平台的硬件和软件，以及其他可以关键设备——多学科的集成电路光刻机设计、制造的集成，测试和测试过程。

该技术涉及光学、结构、动力学、精密运动与控制、软件工程、精密测量、微环境控制等多个领域。积极参加国际学术和技术交流活动，努力培养一支思想先进、方法科学、视野开阔、具有相应高科技研发工程能力的国际化人才队伍。

参考资料来源：网络－上海微电子装备有限公司

② 哪一光刻机巨头，占据了国内的80%市场

上海微电子是大陆光刻设备龙头企业，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场，独占80%的市场份额。

③ 如何看当初大陆唯一一台7nm光刻机被抵押，千亿级芯片项目停摆

高薪挖人爆表，也将这家神奇的公司暴露在公众视野和阳光下，要么是明星，要么是冲上沙滩的那条鱼。是福还是祸，立场不同、观点不同，还真不好说。还原真相总是好的，尽管真相有时很残酷。

本质上这个芯片自主供给率低，反而说明你做的工业产品、门类够多，所以你才需要大量进口。所以这个70%的比率，估计很难达到。真要达到了，估计可以相当于一个国家是一个可以内循环的小世界了。

骗减税思路很简单啊，比如一家中型以上软件公司，资产规模上过亿，营业收入过亿，按照正常来说他的税负是高新企业所得税15%，但事实上他可以拆分自己的专利项目，比如他做了五个子模块，都有一定创新程度，然后去开五家公司，把五个专利分别放到这五家里面，五家公司的资产规模控制在千万左右，营业收入同母公司结算，控制在千万左右，员工名义上划分到各家公司，每家控制在百人以内，这样五家公司就能申报科技型中小企业，研发费用除了原先按50%加计扣除外，还能再加计扣除75%；无形资产可以按照175%摊销。实际上公司通过纸面上的操作，可以把税负率降到10%。

用行政力量引导科技研发，必然会导致各种荒唐事。最后纳税人的钱浪费了，技术没搞出来，还挤压了大量真正做事人的资源。想在高科技领域有所发展，一分钱也别补贴，免税就行。要相信市场的力量和国人的智慧，而不是迷信行政干预和所谓的中国模式。

④ 清华新成果有望解决光刻机自研难题，这是怎么回事

SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源，这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。在芯片制造行业，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂，最关键的工艺步骤，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，在半个多世纪以来，波长光刻技术的光源的规模正在缩小，这已被芯片行业公认为是新一代的主流光刻技术是使用波长为13.5纳米的光源的EUV光刻技术。

这就需要对SSMB EUV光源进行持续的科学技术研究，以及上下游产业链的合作，才能取得真正的成功。专业人士认为这项研究展示了一种新的方法，并且肯定会引起对粒子加速器和同步加速器辐射领域的兴趣，该实验演示了如何结合现有的两种主要加速器光源的特性：同步辐射辐射光源和自由电子激光器，有望将SSMB光源用于EUV中，是光刻和角度分辨光电子能量的未来。清华大学正在积极支持和推动在国家一级建立SSMB EUV光源项目，清华SSMB研究小组已向国家发改委提交了“稳态微束极紫外光源研究装置”的项目提案，并宣布了“十四五”期间国家重大的科学技术基础设施计划”。

⑤ 生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能的产品系列共分布于三大领域：个人产品、办公设备和工业设备，主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

5、荷兰ASML公司

这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

参考资料来源：网络-荷兰ASML公司

参考资料来源：网络-尼康

参考资料来源：网络-佳能

参考资料来源：网络-上海微电子装备有限公司

参考资料来源：网络-ABM

⑥ 光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

⑦ 中国生产28纳米芯片和光刻机的上市公司有哪些

⑧ 生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司：ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

ABM总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团，从1937年成立以来，经过多年不懈的努力，佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。