光刻技術領先的上市公司

『壹』 與華為光刻機有關的上市公司

1、中芯國際，公司是全球領先的集成電路晶圓代工廠之一。
2、華潤微，公司是華潤旗下的高科技企業，擁有完整的半導體產業鏈。
3、容大感光，是業內生產PCB感光油墨產品品種最為齊全的企業之一。
4、晶瑞股份，公司是一家專業從事微電子化學品的產品研發、生產和銷售的高新技術企業。是國內最早規模量產光刻膠的少數幾家企業之一。
5、江化微，國內濕電子化學品領軍企業。
6、長電科技，公司是中國半導體第一大封裝生產基地，國內著名的集成電路製造商，產品質量處於國內領先。

『貳』 光刻機唯一上市公司

光刻機唯一上市公司是張江高科公司，光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
光刻機的品牌眾多，根據採用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：
1、高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
2、位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。
3、生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，解析度通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。
拓展資料：
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
1、解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
2、對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
3、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
4、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

『叄』 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司：ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

ABM總部位於美國矽谷，亞太銷售服務、維修中心設於中國香港，公司在亞洲的中國、韓國、日本、印度、新加坡、馬來西亞、台灣地區設有代理機構。W.J.H.公司為ABM指定的中國獨家代理商。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球領先的生產影像與信息產品的綜合集團，從1937年成立以來，經過多年不懈的努力，佳能已將自己的業務全球化並擴展到各個領域。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。