光刻機唯一上市公司相關帖子

① 上海微電子裝備有限公司是不是上市公司啊急求~~

截止抄2020年9月上海微電子裝備有限公司襲是不是上市公司。上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV／3D、TFT－OLED等製造領域。

(1)光刻機唯一上市公司相關帖子擴展閱讀：

公司擁有一支多學科、高科技人才隊伍和完善的產品開發方法和設備，並支持微電子設備研發的光學、機械、電氣控制、環境測控技術平台的硬體和軟體，以及其他可以關鍵設備——多學科的集成電路光刻機設計、製造的集成，測試和測試過程。

該技術涉及光學、結構、動力學、精密運動與控制、軟體工程、精密測量、微環境控制等多個領域。積極參加國際學術和技術交流活動，努力培養一支思想先進、方法科學、視野開闊、具有相應高科技研發工程能力的國際化人才隊伍。

參考資料來源：網路－上海微電子裝備有限公司

② 哪一光刻機巨頭，占據了國內的80%市場

上海微電子是大陸光刻設備龍頭企業，在國內中端先進封裝光刻機和LED光刻機市場，獨佔80%的市場份額。

③ 如何看當初大陸唯一一台7nm光刻機被抵押，千億級晶元項目停擺

高薪挖人爆表，也將這家神奇的公司暴露在公眾視野和陽光下，要麼是明星，要麼是沖上沙灘的那條魚。是福還是禍，立場不同、觀點不同，還真不好說。還原真相總是好的，盡管真相有時很殘酷。

本質上這個晶元自主供給率低，反而說明你做的工業產品、門類夠多，所以你才需要大量進口。所以這個70%的比率，估計很難達到。真要達到了，估計可以相當於一個國家是一個可以內循環的小世界了。

騙減稅思路很簡單啊，比如一家中型以上軟體公司，資產規模上過億，營業收入過億，按照正常來說他的稅負是高新企業所得稅15%，但事實上他可以拆分自己的專利項目，比如他做了五個子模塊，都有一定創新程度，然後去開五家公司，把五個專利分別放到這五家裡面，五家公司的資產規模控制在千萬左右，營業收入同母公司結算，控制在千萬左右，員工名義上劃分到各家公司，每家控制在百人以內，這樣五家公司就能申報科技型中小企業，研發費用除了原先按50%加計扣除外，還能再加計扣除75%；無形資產可以按照175%攤銷。實際上公司通過紙面上的操作，可以把稅負率降到10%。

用行政力量引導科技研發，必然會導致各種荒唐事。最後納稅人的錢浪費了，技術沒搞出來，還擠壓了大量真正做事人的資源。想在高科技領域有所發展，一分錢也別補貼，免稅就行。要相信市場的力量和國人的智慧，而不是迷信行政干預和所謂的中國模式。

④ 清華新成果有望解決光刻機自研難題，這是怎麼回事

SSMB光源的潛在應用之一是將來成為EUV光刻機的光源，這是國際社會高度重視清華大學SSMB研究的重要原因。在晶元製造行業，光刻機是必不可少的精密設備，是集成電路晶元製造中最復雜，最關鍵的工藝步驟，光刻機的曝光解析度與波長直接相關，在半個多世紀以來，波長光刻技術的光源的規模正在縮小，這已被晶元行業公認為是新一代的主流光刻技術是使用波長為13.5納米的光源的EUV光刻技術。

這就需要對SSMB EUV光源進行持續的科學技術研究，以及上下游產業鏈的合作，才能取得真正的成功。專業人士認為這項研究展示了一種新的方法，並且肯定會引起對粒子加速器和同步加速器輻射領域的興趣，該實驗演示了如何結合現有的兩種主要加速器光源的特性：同步輻射輻射光源和自由電子激光器，有望將SSMB光源用於EUV中，是光刻和角度分辨光電子能量的未來。清華大學正在積極支持和推動在國家一級建立SSMB EUV光源項目，清華SSMB研究小組已向國家發改委提交了“穩態微束極紫外光源研究裝置”的項目提案，並宣布了“十四五”期間國家重大的科學技術基礎設施計劃”。

⑤ 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司有ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康、荷蘭ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能的產品系列共分布於三大領域：個人產品、辦公設備和工業設備，主要產品包括照相機及鏡頭、數碼相機、列印機、復印機、傳真機、掃描儀、廣播設備、醫療器材及半導體生產設備等。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

5、荷蘭ASML公司

這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

參考資料來源：網路-荷蘭ASML公司

參考資料來源：網路-尼康

參考資料來源：網路-佳能

參考資料來源：網路-上海微電子裝備有限公司

參考資料來源：網路-ABM

⑥ 光刻機唯一上市公司

光刻機唯一上市公司是張江高科公司，光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
光刻機的品牌眾多，根據採用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：
1、高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
2、位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。
3、生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，解析度通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。
拓展資料：
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
1、解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
2、對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
3、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
4、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

⑦ 中國生產28納米晶元和光刻機的上市公司有哪些

⑧ 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司：ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

ABM總部位於美國矽谷，亞太銷售服務、維修中心設於中國香港，公司在亞洲的中國、韓國、日本、印度、新加坡、馬來西亞、台灣地區設有代理機構。W.J.H.公司為ABM指定的中國獨家代理商。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球領先的生產影像與信息產品的綜合集團，從1937年成立以來，經過多年不懈的努力，佳能已將自己的業務全球化並擴展到各個領域。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。